PVD技術(shù)的應用范圍及優(yōu)缺點(diǎn)

其應用范圍是：

1）碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

其優(yōu)點(diǎn)是:

與傳統磁控濺射單色PVD技術(shù)相比，雙色PVD工藝更為復雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高，宿州不銹鋼鍍鈦哪里有，但外觀(guān)效果，兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。

傳統磁控濺射單色PVD技術(shù)要在實(shí)現雙色效果，采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎上把需要實(shí)現另一種顏色的區域激光鐳雕掉或者磨掉。

玫瑰金、鈦金、黑鈦、香檳金等顏色，都是通過(guò)電鍍鍍鈦的方式加工而成的。不銹鋼鍍鈦雖然可以讓不銹鋼表面變得非常漂亮，但是在加工過(guò)程中也有很多需要注意事項，如果不去注意鍍完的產(chǎn)品就會(huì )出現各種瑕疵。

電鍍時(shí)，表面不銹鋼鍍鈦哪里有，基體不銹鋼屏風(fēng)和不銹鋼屏風(fēng)鍍層之間常因存在非不銹鋼的夾層而不能形成連續的結晶結構，金屬不銹鋼鍍鈦哪里有，造成鍍層起泡或脫落等結合不良的缺陷。因此，必須徹底清除氧化皮、銹及氧化物等變質(zhì)層。雖然加工層，鍍層能夠與之牢固地結合，因而無(wú)需用浸蝕法加以清除，一般只需進(jìn)行酸洗處理。

磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎上發(fā)展起來(lái)的一種新型濺射鍍膜法，由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點(diǎn)，真空不銹鋼鍍鈦哪里有，因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應用.

1. 磁控濺射:

離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現象稱(chēng)為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實(shí)現濺射鍍膜.

磁控濺射的基本原理:

磁控濺射是在濺射區加了與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng)，處于正交電場(chǎng)區E和磁場(chǎng)B中的電子的運動(dòng)方程，

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